日本ゼオン、非対称SISの開発で高分子学会賞を受賞

　日本ゼオンは5月31日、5月30日に幕張メッセで開催された第66回高分子学会年次大会で、同社の製造販売する非対称SIS（スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体、商品名クインタック）が、平成28年度高分子学会賞（技術）を受賞したと発表した。同大会では受賞講演と授賞式が開催され、賞を授与された。

　SISはゴム材料、粘接着剤、耐衝撃性改良剤、成形材料として広く使われているが、近年は紙おむつ用の伸縮材料（エラスティックフィルム）の素材として使用量が増大している。さらに市場拡大とともに、フィルムの薄膜化への要求が高まり、それを実現するため「伸縮性」に加え、「強度」の向上が求められてきたが、従来の技術では相反する両特性を向上させる飛躍的な改良は困難と考えられてきた。

　同社では、スチレン－イソプレン－スチレンの両末端に位置するスチレンブロックを意図的に極端な非対称構造で偏りをもたせ、同時に低スチレン比率で両末端のスチレンが対称なスチレンブロックを混在させることにより、高スチレン由来の高強度を維持しながら高い伸縮性を両立させることに成功。これにより従来品を使用したフィルムと比較して最大50％の薄膜化の実現が可能となり、また2種類のSISを一度に重合する手法をも開発したことで、工業化を達成し、今回の受賞に至った。

　また、非対称構造技術はエラスティックフィルムに留まらず、熱感光性フレキソ板では「印字特性」と「耐久性」の両立、粘着剤材料では「粘着性」と「打ち抜き加工性」の両立を達成するなど、従来では両立実現困難とされてきた機能付与への貢献も期待されており、今後の拡がりの可能性も評価された。