日本ゼオン、水島工場GPI設備に追加投資でシクロオレフィンポリマーの原料生産能力増強

　日本ゼオンは、水島工場（岡山県倉敷市）において GPIプラントに新たな設備を追加し、能力増強を図る投資を決定した。これによりC5事業の主軸で成長ドライバにも位置付けるシクロオレフィンポリマー（COP）およびCOP製光学フィルムなどの主原料となるジシクロペンタジエン（DCPD）の生産能力が現行比で最大2割程度向上する。

　同投資により、汎用品向け主原料であるピペリレンなどの生産量を増やすことなく、DCPDの安定確保が可能となることに加え、これまで未利用だった成分を有効活用することで、CO2排出量の削減にも寄与する。工事は、2026年度下期に着工し、2028年9月完工を目指す。

　水島工場は、GPI法を活用したC5留分総合利用工場として1969年に操業を開始。GPI法により生み出されるイソプレン、DCPD、ピペリレン、2―ブチンといった有効成分を合成ゴムやCOP、石油樹脂、合成香料などのさまざまな製品へと展開している。

　DCPDは、COPのほか RIM配合液などの高収益製品の原料として使用されており、特にCOPおよびCOP製光学フィルムは、中期経営計画「STAGE30」において、着実に拡大を見込む成長ドライバに設定され、今後の需要拡大が見込まれている。

　こうした拡大基調に対する原料調達について様々な検討を重ねてきた結果、これまで未利用だった成分を活用する技術の確立により、C5留分を追加調達することなく、安定的な原料確保が可能となる。

　また、今回の方法は、C5留分からの抽出に比べ、CO2排出削減効果が見込まれ、カーボンニュートラルにも寄与する。同社は、STAGE30において、「選択と集中」によるポートフォリオの組み換えを推進しており、今回の投資により C5事業のさらなる拡大に加え、競争力強化を図る。